・新規材料（界面化学領域でのテーマ）の研究開発、特許化
・固液界面での作用モデルの解明、材料の配合設計
・複数のメンバーを束ね、開発テーマの推進
・部下、若手技術者育成（技術、思考レベル向上支援）
化学的な視点（マクロとミクロ）での理論、仮説に基づく最適な組成配合、材料選定による研究開発が同社の特徴。
新規事業部では事業環境の変化に即応するべく、半導体市場や研磨材以外の分野での成長をめざし、研究開発に取り組んでいます。
短期では既存事業の深堀りと周辺領域の新規用途開拓、中期的には「パウダー＆サーフェス」を意識した非研磨用途・事業の拡大を目指しており、そのために化学の知見を持った方を求めています。

次世代パワー半導体基板向けの研磨スラリー開発において、
複数のメンバーを束ねテーマを推進頂くリーダー（主任～係長クラス）としてお迎えします。

＜具体的には…＞
自動車/電装、産業用機器、情報通信機器等幅広い分野で世界的に需要増が期待される
パワー半導体の各種基板（SiC、GaN、酸化ガリウム等）向け研磨材開発を担って頂きます。
・化学的視点（ミクロ、マクロ挙動）に基づき、材料の選定および配合の最適設計
　－高い研磨性能と高精度の面品質を実現するために、固液界面での作用モデルを研究、配合設計
　－研磨スラリーは、研磨対象物に応じた、無機砥粒、有機酸、無機酸やポリマー等で構成
　－エッチング、表面保護、分散制御、研磨対象物への吸着有無などを操作
・部下、若手技術者育成（技術、思考レベル向上支援）
・材料の新規探索、サプライヤーとの共同開発

■配属先部署：シリコン開発部　半導体新規事業課

次世代パワー半導体基板向けの研磨スラリー開発において、
複数のメンバーを束ねテーマを推進頂くリーダー（主任～係長クラス）としてお迎えします。

＜具体的には…＞
自動車/電装、産業用機器、情報通信機器等幅広い分野で世界的に需要増が期待される
パワー半導体の各種基板（SiC、GaN、酸化ガリウム等）向け研磨材開発を担って頂きます。
・化学的視点（ミクロ、マクロ挙動）に基づき、材料の選定および配合の最適設計
　－高い研磨性能と高精度の面品質を実現するために、固液界面での作用モデルを研究、配合設計
　－研磨スラリーは、研磨対象物に応じた、無機砥粒、有機酸、無機酸やポリマー等で構成
　－エッチング、表面保護、分散制御、研磨対象物への吸着有無などを操作
・部下、若手技術者育成（技術、思考レベル向上支援）
・材料の新規探索、サプライヤーとの共同開発

■配属先部署：シリコン開発部　半導体新規事業課