具体的な業務内容
【パソナキャリア経由での入社実績あり】
高いシェアを誇る製品分野を多数保有する産業機器メーカーにて、CMP装置の新機能開発及び次世代向け基礎技術開発に携わって頂きます。
【職務内容】
■CMP装置に係わる、新機能開発及び次世代向け基礎技術の開発業務(計画立案、試験・分析)
■海外拠点との連携によるお客様との仕様検討・技術折衝。本業務を通した開発テーマの改善点の吸い上げ。
■お客様への新規機能導入後のサポート
※顧客が海外の場合も多い為、必要に応じて海外客先への出張業務も担当。
【ポジションの魅力】
■CMP装置に関わる新機能(研磨・洗浄・乾燥)に関し、基礎開発から応用開発まで全般を担当しています。開発内容によっては大学との共同研究や他社との協業も行っています。
■半導体製造技術は、現在はnm~Åレベルの制御が求められており、その要求を満たすための新しい技術を常に求められます。本開発業務を通して、今まで世の中にない、新しい技術を創造する経験ができます。
■お客様との折衝や現地サポートを通して、半導体デバイス開発の最新動向を体感できます。
【入社後のキャリアパス】
■配属後、数年間は、CMP装置の研磨・洗浄・乾燥に関わる新機能開発業務を通して、当社CMP装置及び顧客要求の理解を深めていただきます。
■一定のスキルレベルに達した後は、開発テーマのリーダとして、担当開発テーマの開発を推進する役割を担っていただきます。併せて、海外拠点メンバーと共に、お客様との技術折衝に参加することを通して、顧客の開発動向やニーズを把握し、開発業務へのフィードバックするスキルを身につけていただきます。
■なお、一定スキルレベルに達した後は、本人の希望も考慮して、社内の関係部門や拠点といった、よりお客様に近い位置での業務にも従事していただく可能性があります。
【募集背景】
次世代デバイスに対するお客様の開発スピードは非常に早く、また、CMPへの要求事項は更に厳しくかつ多種多様になっています。本状況において、当社はお客様に対して新技術を含めたソリューションをタイムリーに提供していく必要があり、その成否は今後の事業拡大に向けて重要です。本募集は、当社開発力の更なる増強、ひいては当社のCMP事業の更なる成長・拡大を目的としています。
【組織構成】…
募集条件
雇用形態 | 正社員 |
---|---|
求める人物像 |
【必須要件】 ■プロセス開発の試験業務(計画、試験・分析)の経験 ※チームでの連携業務を円滑に進められるコミニュケーションスキル 【歓迎要件】 ▼半導体装置のメーカー(特にCMP装置)、またはデバイスメーカにおいて、プロセスまたはフィールドエンジニアの経験 ▼英語でのコミニュケーションスキル ※拠点・顧客との折衝業務等があるため |
勤務地 |
神奈川県藤沢市 |
給与・待遇・福利厚生 |
経験・スキルに応じて変動します |
休日・休暇 |
完全週休二日(土日) |
企業情報
業種 | メーカー(機械) メーカー(半導体・電気・電子部品) 環境・リサイクル関連 |
---|---|
本社所在地 | 東京都大田区羽田旭町11−1 |
設立 | 1920年5月20日 |
従業員数 |
1000人以上 |
売上高 | 251,520,000,000円 |
URL | http://www.ebara.co.jp/ |
人材紹介会社情報
この求人は紹介求人です。姉妹サイトイーキャリアFAへの応募になります
人材紹介会社名 | 株式会社パソナ ハイキャリア転職支援 |
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厚生労働大臣許可番号 | 13-ユ-010444 |
紹介事業事業所・拠点 | ■東京本社 東京都港区南青山3-1-30 PASONA SQUARE ■大阪支店 大阪府大阪市中央区道修町4-1-1 武田御堂筋ビル2F ■名古屋支店 愛知県名古屋市中区栄3-6-1栄三丁目ビルディング(ラシック)10F |
URL | https://www.pasonacareer.jp/ |
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