具体的な業務内容

下記のような研究開発業務を、スキルや適性に応じてご担当いただきます。
■先端マスク、特にEUVマスク向けの材料、プロセス、後工程装置の研究開発
・シミュレーションを用いた次世代フォトマスク材料設計/開発/特許化。
・次世代フォトマスクブランクス/レジスト/導電膜等の開発/特許化。
・次世代フォトマスク用装置の選定/導入/プロセス立上げ/技術移管。
・フォトマスク及びフォトマスク用材料の計測/分析。
・統計手法及び機械学習を用いたプロセス開発/最適化/技術移管。
■ナノインプリント向けの材料、プロセス、装置の研究開発
・ナノインプリントの材料設計/開発/特許化。
・ナノインプリント用装置の選定/導入/プロセス立上げ/技術移管。

【期待する役割】
研究開発にとどまらず、他部門と連携し製造現場へのプロセスの落とし込みまで携わっていただきます。海外顧客、装置や材料メーカーとのやり取り、海外他拠点の技術員との連携を推進しています。

【魅力】
旺盛な半導体需要に的確・迅速に対応するため、TOPPANホールディングス株式会社から独立しIPOを目指しております。
そのため、現在の変革期にあたり新たな経験をグローバル目線で積むことができます。

募集条件

人材紹介会社情報

この求人は紹介求人です。姉妹サイトイーキャリアFAへの応募になります